{"id":281,"date":"2023-04-13T12:24:15","date_gmt":"2023-04-13T12:24:15","guid":{"rendered":"https:\/\/bcmc.physik.uni-halle.de\/?p=281"},"modified":"2026-05-11T10:13:53","modified_gmt":"2026-05-11T09:13:53","slug":"rasterelektronenmikroskop","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/bcmc.physik.uni-halle.de\/en\/rasterelektronenmikroskop\/","title":{"rendered":"Quanta 650 FEG Rasterelektronen\u00admikroskop"},"content":{"rendered":"\n
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Rasterelektronenmikroskop<\/strong><\/h1>\n<\/div>\n\n\n\n

Quanta 650 FEG<\/h3>\n\n\n\n
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Das Quanta 650 FEG Rasterelektronenmikroskop<\/strong> zeichnet sich durch seine hohe Flexibilit\u00e4t in der Probenanalyse aus. Die Feldemissionsquelle (FEG)<\/strong> gew\u00e4hrleistet eine besonders hohe Aufl\u00f6sung und Signalst\u00e4rke \u2013 ideal zur Darstellung feiner Oberfl\u00e4chenstrukturen im Mikro- und Nanometerbereich. Eine besondere St\u00e4rke des Systems ist der Environmental-Scanning-Modus (ESEM)<\/strong>: der Untersuchungen unter variabler Gasatmosph\u00e4re oder bei erh\u00f6htem Feuchtigkeitsgehalt erm\u00f6glicht. Dadurch lassen sich empfindliche, nicht leitf\u00e4hige oder feuchte Materialien ohne aufw\u00e4ndige Beschichtung im naturnahen Zustand analysieren. <\/p>\n\n\n\n

Je nach Fragestellung k\u00f6nnen sowohl ganze Proben als auch definierte Teilbereiche in hoher Detailtreue abgebildet werden. Das Quanta\u202f650\u202fFEG liefert kontrastreiche Aufnahmen und pr\u00e4zise Informationen zur Oberfl\u00e4chenmorphologie \u2013 eine zuverl\u00e4ssige Grundlage f\u00fcr Werkstoffcharakterisierung, Qualit\u00e4tskontrolle oder Schadensanalyse.<\/p>\n<\/div>\n\n\n\n

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Technische Details:<\/strong><\/p>\n\n\n\n

Bezeichnung<\/td>Rasterelektronenmikroskop<\/td><\/tr>
Firma<\/td>FEI<\/td><\/tr>
Ger\u00e4t<\/td>Quanta 650 FEG<\/td><\/tr>
Jahr<\/td>2013<\/td><\/tr>
Standort<\/td>TGZ3 1.093<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><\/figure>\n\n\n\n

Preise:<\/strong><\/p>\n\n\n\n

Selbstnutzung (\u20ac\/h)<\/td>67,64<\/td><\/tr>
Service (\u20ac\/h)<\/td>112,64<\/td><\/tr>
Selbstnutzung MLU (\u20ac\/h)<\/td>40,-<\/td><\/tr>
Service MLU (\u20ac\/h)<\/td>80,-<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><\/figure>\n<\/div><\/div>\n\n\n\n

Buchen<\/h3>\n\n\n\n
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