Pulsed Laser Deposition System

Die PLD Workstation 1″/1000 °C ein modernes Pulsed Laser Deposition (PLD)-System zur Herstellung von Dünnschichten. Das Verfahren basiert auf der Abtragung von Material aus einem Target durch hochenergetische Laserimpulse und der anschließenden Abscheidung auf einem Substrat. Somit lassen sich komplexe Oxide und andere Materialien mit hoher Präzision in Schichtdicke und Zusammensetzung herstellen.

Das System erlaubt die Bearbeitung von Substraten bis zu 1 Zoll Durchmesser und eine Heiztemperatur bis 1000 °C. Die flexible Prozesskammer ermöglicht die Einstellung unterschiedlicher Gasatmosphären und Drücke, sodass auch anspruchsvolle Schichtsysteme realisiert werden können.